微壓力接近傳感器的快速發(fā)展，用電單晶體的壓型鋼板結(jié)構(gòu)開發(fā)出一種新的傳感器，以及內(nèi)置的前置放大器，放大器通過微弱信號(hào)的放大與實(shí)現(xiàn)阻抗變換，使傳感器具有小范圍、高靈敏度的特點(diǎn)，抗干擾性好等。這種傳感器已廣泛應(yīng)用于脈沖、管壁壓力波動(dòng)等小信號(hào)檢測(cè)。但同時(shí)，它是一個(gè)迫切需要測(cè)量這種類型的傳感器的性能與一個(gè)簡(jiǎn)單的和方便的測(cè)量裝置。

　　為了解決微壓力接近傳感器的靈敏度和非線性之間的矛盾，使用復(fù)合材料梁的結(jié)構(gòu)和平板膜結(jié)構(gòu)。島上的面積不擴(kuò)大或減少的比例。首先，為了提高靈敏度，應(yīng)盡量減少窄梁面積的長度和寬度。由于對(duì)梁式膜結(jié)構(gòu)的有限元分析和近似分析分析，發(fā)現(xiàn)窄梁的長度和寬度可以明顯增加梁的應(yīng)力。當(dāng)中窄梁的長度約為兩側(cè)的窄梁長度的2倍時(shí)，該裝置的線性度是適合好的。

　　雖然有一個(gè)結(jié)構(gòu)的雙島，但在高過載條件下，硅膜將是第一次爆發(fā)從邊界地區(qū)和角區(qū)的島嶼。這是因?yàn)閭鹘y(tǒng)的島狀膜結(jié)構(gòu)是使用傳統(tǒng)的各向異性濕法蝕刻，從背面的硅膜和背面的島嶼。硅膜為晶體表面，邊框和背面為大表面，銳角為54.74度。根據(jù)力學(xué)原理，角部區(qū)域內(nèi)存在應(yīng)力集中效應(yīng)，當(dāng)硅膜被壓在前面或背面時(shí)，角區(qū)將有極大的應(yīng)力值。在引入應(yīng)力分散結(jié)構(gòu)后，將角區(qū)變成了一個(gè)具有一定曲率的圓角圓角。

　　在硅膜和邊界的邊界或背島形成一定的曲率的半結(jié)構(gòu)，使用傳統(tǒng)的各向異性濕法蝕刻不能實(shí)現(xiàn)。為了這個(gè)目的，掩模和非掩模各向異性濕法蝕刻技術(shù)被使用。